哈默納科刻蝕加工諧波CSF-17-80-2UH

離子束刻蝕加工

離子束刻蝕是通過用能量為0.5一SkeV的離子轟擊工件，將工件材料原子從工件表面去除的工藝過程，是一撞擊濺射過程。哈默納科刻蝕加工諧波CSF-17-80-2UH為了避免入射離子與工件材料發生化學反應，必須用惰性元素的離子。氫氣的原子序數高，價格便宜，所以通常用氫離子進行轟擊刻蝕。由于離子直徑很小〔約十分之一納米)，可以認為離子刻蝕的過程是逐個原子剝離，刻蝕的分辨率可達微米級甚至是亞微米級。但刻蝕速度很低，剝離速度大約每秒一層到幾十層原子。因此，離子刻蝕是一種原子尺度的切削加工，又稱離子銑削。

   目前，離子束刻蝕在高精度加工、表面拋光、圖形刻蝕、電鏡試樣制備、石英晶體振蕩器以及各種傳感器件的制作等方面應用較為廣泛哈默納科刻蝕加工諧波CSF-17-80-2UH。離子束刻蝕加工可達到很高的分辨率，適于刻蝕精細圖形，實現高精度加工。離子束刻蝕加工小孔的優點是孔壁光滑，鄰近區域不產生應力和損傷，而且能加工出任意形狀的小孔。

   離子束刻蝕用于加工陀螺儀空氣軸承和動壓馬達上的溝槽，分辨率高、精度高、重復性好，加工非球面透鏡能達到其他方法不能達到的精度。