哈默納科熱處理設備諧波SHF-45-100-2UH

而且電子束設備的功率可以做得比激光功率大，所以電子束熱處理工藝發展前景看好。

   用電子束加熱金屬使之表面熔化后，哈默納科熱處理設備諧波SHF-45-100-2UH可在熔化區內加入添加元素，使金屬表面形成一層很薄的新的合金層，從而獲得更好的物理力學性能。其中，鑄鐵的電子束熔化處理可以產生非常細的萊氏體組織，其優點是抗滑動磨損性能好。研究表明，鋁、欽、鎳的各種合金幾乎均可進行添加元素處理，從而使其耐磨性能大大提高。

   4.電子束曝光

   電子束曝光是先利用低功率密度的電子束照射稱為電致抗蝕劑的高分子材料，由入射電子與高分子相碰撞，使分子的鏈被切斷或重新聚合而引起分子量的變化，這一步驟也稱為電子束光刻。通常將它作為集成電路、微電子器件以及微型機械元器件的刻蝕前置工序。如果按規定圖形進行電子束曝光，就會在電致抗蝕劑中留下潛像。然后將它浸入哈默納科熱處理設備諧波SHF-45-100-2UH適當的溶劑中，則由于分子量不同而溶解度不一樣，就會使潛像顯影出來，

電子束曝光主要分為兩類:掃描電子束曝光，又稱電子束線曝光;投影電子束曝光，又稱電子束面曝光·線曝光是將聚焦到小于1E}m的電子束斑在大約0.5 -5mm的范圍內自動掃描，可曝光出任意形狀的圖形。